湿法黑硅制绒添加剂HG-001

发布日期:2016年07月11 浏览次数:次  编辑:admin

 硅片使用湿法黑硅制绒添加剂制绒后,反射率可以降低到10%以内,比常规湿法多晶制绒的反射率22-25%降低了15%左右,从而可以大幅提高电池片的电流。
  
  外观对比:使用湿法黑硅制绒添加剂制绒后,硅片无明显晶界,且反射率明显降低

 绒面结构:使用湿法黑硅制绒添加剂制绒后,绒面结构与常规制绒发生明显改变,陷光效果更好,绒面更小。

注:湿法黑硅制绒添加剂适用于各种类型的硅片制绒,但由于工艺路线发生变化,制绒设备需改变。